青山遮不住毕竟东流去,上海微电子研发国产第一台28纳米浸没式光刻机交付市场

再怎么复杂，也就是一个技术工程，没有什么不可逾越的障碍
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据新华网7月31日消息，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。这条消息还透露，国家知识产权局此前公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”，在极紫外线光刻机核心技术上取得突破性进展。
看了这条消息，估计那些“美吹“华为黑”又得如丧考妣，难过得想撞墙了。自从美国将中国企业华为、中国半导体产业列为科技战重点打击对象后，特别是对我们的芯片设限后，他们成天在舆论场上吹嘘芯片的“卡脖子”技术有多难突破，话里话外都是让我们别干了，干也干不成。

对于芯片技术，这些人最爱扯的无疑是光刻机了，称其为“半导体工业皇冠上的明珠”，说光刻机有10多万个零件，是集中“全人类智慧的结晶”，中国人不可能靠一己之力突破。

光刻机是“半导体工业皇冠上的明珠”，需要10多万个精密零件，这些我们都承认。相信绝大多数中国人都承认，光刻机技术的突破之路确实非常艰难，需要我们虚心向其他发达技术国家学习。这与我们过往突破“两弹一星一艇”、太空站、航空发动机、超超临界燃煤发电技术、特高压、航空母舰等所有大的技术工程一样，没有“脱一层皮”的精神是干不成的。贬低其难度，就是对中国科技工作者的不尊重。

承认难度，绝非为了打击自信。我们对一些所谓专家学者不爽的是，他们张嘴就贬低中国人突破的所有技术难题，称“造芯片比造原子弹难十倍”“中国人不可能突破光刻机技术”等定性式的结论，一副他站在洋人一边就可以高人一等的样子。
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首先，光刻机技术并非什么高不可攀的新东西，我们中国人其实曾经也是世界“第一梯队”。

; X' K+ c# s4 ?0 F+ y新华网的这则消息表示，中国在1965年就研制出了65型接触式光刻机，1985年研制出的分步光刻机样机，当时与国外先进水平差距不超过7年。改革开放后，我国开始从国外购买光刻机。特别是自20世纪90年代起，阿斯麦等国外企业却迅速崛起，我们的企业缺乏资金投入，慢慢就掉了队。

' y1 L; ?8 ?! J; \0 v8 \( [有人可能怪国家，觉得为什么没有坚持投入，但大家一定要体谅国家的难处。当年我们的国力不足以支持四处出击，以致这样的遗憾比比皆是，比如运十下马、暂缓核潜艇工程等。这也是国家通盘全局后作出的决定，说忍痛割爱也不为过，但这是没有办法的事，我们不能用今天的环境来看历史。毕竟当时我们要干的事太多，处处都需要钱和资源，必然存在一个取舍。
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当然，我们在这个过程中也不能说完全没有误判，就以光刻机为例，我们就把美国想得太好了，以为他们会遵守自己制订的市场规则，所以主要依托全球化的国际市场进采购，没有提防美西方国家耍阴招。中国光刻机龙头企业上海微电子，迄今为止总共也才投资20多亿人民币，而且大多还是2018年之后，可见我们当年对美国有多放心。

! @, C2 S+ n% B  s& p+ Q所以大家觉得，光刻机没干出来是因为真的有多难吗？主要是因为我们没重视，投入的资源太少了而已。这四五年，国家稍微给点阳光和雨露，这好消息不就来了吗？

/ q1 C5 T# c5 _- c! M其次，阿斯麦光刻机确实集成了多国先进技术，但他真的就是“全人类智慧的结晶”不可逾越吗？
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我敢说，但凡被这种大词忽悠的人都是遇事不过脑子，缅甸电诈集团最合适的目标客户群体。当然，这些也有可能是长期被西方媒体和国内公知联合PUA综合征患者，脑浆、膝盖都和浆糊一样稀软。

大家想一想，给荷兰的阿斯麦光刻机提供零部件的国家无非是德国、法国、日本、美国等不超过10个国家，人口约几亿人。不过少数几个西方国家，啥时候就成了全人类？也难怪，我们总有一些人爱拿西方世界几亿人代表全人类。
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再看看我们中国，一个14亿人口的工业大国，全球制造业老大，制造业总量、工业人口都远超这些国家之和，我们有什么道理干不出原理已知、技术路线已知的一件工业产品——光刻机呢？一些人自己不聪明，还以为中国人都和他们一样蠢！

! Z" R& u* e( L0 Z% |所以不管从哪个角度看，我们都应该对中国突破半导体“卡脖子”技术有信心。这则消息中，中国半导体行业协会副理事长于燮康告诉记者：“尽管我国半导体产业面临技术等各种挑战，但高速增长的国内市场规模也为产业升级优化提供了重要机遇。”

0 u' V7 [' |3 W" |0 z% e# _- j( {作为半导体行业人士，于副理长的话无疑既客观，又符合辩证法，这才是理性的态度。我们有理由相信，在美国对华半导体技术设限的“春风”吹拂下，中国相关企业一定是“痛并快乐着”，拿下这块高地的时间离我们不会太远了。
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喋喋不休

喋喋不休

走投无路

不可思议

难以置信

莫等闲白了少年头

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